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  2013年08月12日 版面导航 标题导航 返回本期头版
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上海科学家研制出世界首个“半浮栅晶体管”

         青年报记者 严柳晴 

    本报讯 在微电子产业链中,我国长期扮演“打工帝国”的角色——处在制造业链条的最末端,核心专利被国外垄断。日前,复旦大学微电子团队研发出一种名叫“半浮栅晶体管”的电子基础器件。我国微电子领域研发,终于不再“吃别国的剩饭”。

    这种名叫“半浮栅晶体管”的电子基础器件,藏身于个人电脑内存之中,它容积小、功率低,具有应用广泛前景。该研究成果刊发在最新一期的《科学》杂志上。据介绍,这是我国科学家首次在该期刊上发表微电子领域的论文。

    团队成员、复旦大学王鹏飞教授曾在国外参与65纳米技术研发。他告诉记者:“过去,国外公司在市场上推出新技术芯片后,便把淘汰的工艺技术再以高价卖给中国企业。”

    而“半浮栅晶体管”的发明,赶在了国际大企业之前,在微电子领域里头一回“领跑”。作为一种新型的微电子基础器件,将促使我国在掌握集成电路的核心技术,进而在芯片设计与制造上逐渐获得更多话语权。 

    拥有核心专利并不等于拥有未来的广阔市场。国外大公司拥有资金和人才优势,可以大规模申请专利,与之相比,复旦大学团队明显“势单力薄”。

    复旦大学微电子学院副院长张卫说,集成电路行业是一个完全全球竞争性的行业,技术竞争极其激烈。“不过我们已经申请了10多项核心专利,核心技术在我们手中。”尽管半浮栅晶体管应用市场广阔,但前提是核心专利的优化布局。“我们希望专利布局能做得更快一点,才能避免被国外的大公司赶超。”

    [名词解释·“半浮栅晶体管”]

    集成电路中最基本的单元是一种叫MOSFET的晶体管,王鹏飞教授介绍说,“我们把一个隧穿场效应晶体管(TFET)和浮栅器件结合起来,构成了一种全新的“半浮栅”结构的器件,称为半浮栅晶体管。“硅基TFET晶体管”使用了硅体内的量子隧穿效应,“隧穿”是量子世界的常见现象,可以“魔术般”地通过固体,好像拥有了穿墙术。“隧穿”势垒越低,相当于“墙”就越薄,器件隧穿所需电压也就越低。而传统的浮栅晶体管的擦写操作则是使电子隧穿过绝缘介质。

    因此,半浮栅晶体管的“数据”擦写更加容易、迅速。可见,半浮栅晶体管在某些存储器领域将具有明显的技术领先优势。

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